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石英晶体谐振器和振荡器 频率控制和定时应用教程(之四)

  • Oct 25,2024
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短期不稳定的原因
l约翰逊噪声(热诱导电荷波动,即电阻元件中的“热电动势”)
l缺陷和量子涨落引起的声子散射(与Q有关)
l振荡器电路(有源和无源元件)产生的噪声
l温度波动-热瞬态效应
活动在烤箱设定点下降
l随机振动
l吸附分子数量的波动
l应力释放、界面波动(石英、电极、安装、粘合)
l原子频率标准中的散粒噪声
字母 l(英语字母表中的第十二个字母)
l ? ? ?


Allan偏差

也称为双样本偏差,或“艾伦方差”的平方根,它是描述时域中振荡器短期稳定性的标准方法。用σy(τ)表示,

where       

分数频率是在一段时间内测量的

间隔,τ;(yk+1-yk)是成对的

y的连续测量,理想情况下,<>表示无穷多(yk+1-yk)2的时间平均值。通过有限数量的m次测量可以获得一个很好的估计

(m≥100)。通常表示·,即。

为什么σy(τ)?

经典方差:

一些常见的噪声发散

随机游走等过程,即方差随着数据点数量的增加而增加。

l艾伦方差:

•精密振荡器中观察到的所有噪声过程的收敛。

•与幂律谱密度类型有直接关系。

•易于计算。

•在估计噪声过程方面比快速傅里叶变换更快、更准确。


频率噪声和σy(τ)


时域稳定性

*为了使σy(τ)成为随机频率波动的适当度量,必须从长τ的数据中适当地减去老化。


σy(τ)的幂律依赖性

在频率噪声闪烁(即“闪烁基底”)区域以下,晶体振荡器通常表现出τ-1(白相位噪声)依赖性。原子

标准显示τ-1/2(白频噪声)依赖性低至约

伺服回路时间常数,τ-1依赖性小于该时间常数。

闪烁下限开始时的典型τ为:晶体振荡器为1s,晶体振荡器为103s

Rb标准和Cs标准的105s。在τ较大的情况下,频率和老化的随机游走占主导地位。


噪音图片

图表显示了量z(t)的波动,例如,可以是计数器的输出(Δf vs.t)或相位检测器的输出(φ[t]vs.t。这些图显示了模拟的时域行为

对应于最常见的(幂律)光谱密度;hα是振幅

系数。注:由于SΔf=f2Sφ,例如白频噪声和相位随机游走是等效的。


谱密度

在频域中,由于相位偏差φ(t),一些

功率在ν0以外的频率。稳定性为

以“光谱密度”为特征。光谱密度SV(f)

在以f为中心的单位带宽内,均方电压<V2(t)>不是衡量频率稳定性的好方法,因为ε(t)和φ(t)都对频率稳定性有贡献,而且它与频率波动没有唯一关系

(尽管ε(t)在精密频率源中通常可以忽略不计。)

相位和分数频率波动的谱密度Sφ(f)和Sy(f)分别用于测量

频域。量g(t)的谱密度Sg(f)是以f为中心的单位带宽中g(t的均方值。此外,

带宽BW中g2的RMS值由下式给出

混音器功能


相位检测器

相位噪声测量


频率-相位-时间关系


相位噪声的类型


晶体振荡器中的噪声

l频率乘以N会使相位噪声增加N2(即增加20log N,单位为dB)。

l在许多应用中,振动引起的“噪声”主导了所有其他噪声源(见后面的加速度效应部分)。

l靠近载波(在谐振器的BW内),Sy(f)变化为1/f,Sφ(f)为1/f3,其中f=与载波频率的偏移,ν。Sφ(f)也随1/Q4变化,其中Q=无负载Q

l Qmaxν=常数。,Sφ(f)≠ν4。(Qmaxν)BAW=1.6 x 1013赫兹;(Qmaxν)声表面波=1.05 x 1013赫兹。

σy(τ)随τ-1和τ-1/2变化的区域(τ-1/2出现在原子频率标准中),

σy(τ)├(QSR)-1,其中SR是信噪比;即,Q和信噪比越高,短期稳定性越好(频域中远离载波的相位噪声也越好)。

l当振荡器维持电路是一个重要的噪声源时,谐振器的负载Q会影响噪声。

噪声基底受约翰逊噪声的限制;噪声功率,kT=-174 dBm/Hz,290K

l更高的信号电平可以改善噪声基底,但不能改善近距离噪声。(事实上,高驱动电平通常会降低近距离噪声,原因尚不完全清楚。)

l低噪声SAW与低噪声BAW相乘:BAW在f<~1kHz时噪声较低,SAW在f>~1kHz时噪音较低;可以对两者进行锁相,以获得两者的最佳效果。


低噪声SAW和BAW倍增至10 GHz

(在非振动环境中)


低噪声SAW和BAW倍增至10 GHz

(在振动环境中)


TCXO噪声

TCXO的短期稳定性取决于温度(T),通常比OCXO差,原因如下:

•TCXO晶体的频率(f)与T的斜率随T而变化。例如,在~20℃时,f与T的坡度可能接近零,但在T的极端值时,它将为~1ppm/oC。T

波动将在实验室环境T下引起较小的f波动,因此稳定性可能很好,但毫度波动将在T极值处引起~10-9 f波动。TCXO的f与T斜率也随T而变化;零点和最大值可以在任何T处

最大斜率约为1ppm/oC。

•AT切割晶体的热瞬态敏感性使T波动的影响不仅取决于T,还取决于T的变化率(而SC切割晶体

通常用于精密OCXO对热瞬变不敏感)。在变化的T条件下,T传感器(热敏电阻)和晶体之间的T梯度会加剧问题。

•TCXO通常使用基模AT切割晶体,其Q值低于OCXO中通常使用的晶体,C1值大于OCXO中使用的晶体。Q越低,晶体本身就越嘈杂,而C1越大,振荡器对电路噪声越敏感。

•AT切割晶体的f与T通常表现出活性下降(见本文后面的“活性下降”

第章)。在出现骤降的T处,f与T的斜率可能非常高,因此T波动引起的噪声也会非常高,例如,σy(τ)可能降低100倍,相位噪声可能降低30 dB。任何T点都可能出现活动下降。


石英手表精度与温度


频率与温度特性


谐振器f与T的决定因素

主要:切割角度

l中学:

•Overtone

•空白几何形状(轮廓、尺寸比)

•材料杂质和应变

•安装和粘合应力(大小和方向)

•电极(尺寸、形状、厚度、密度、应力)

•驾驶水平

•干扰模式

•负载电抗(值和温度系数)

•温度变化率

•热历史

•电离辐射


频率温度与切割角度,AT切割


OCXO应用中SC截止谐振器的期望f与T


OCXO烘箱对稳定性的影响

AT和其他非热瞬态补偿振荡器切割的比较表没有意义,因为动态f与T效应通常会主导静态f与T效果。


烘箱稳定性限制

•通过前馈补偿技术实现了105的热增益(即,在外壳T外测量并调整热敏电阻的设定值以进行预测和

补偿),并配有双烤箱。例如,当增益为105时,如果外部ΔT=100oC,内部ΔT=1 mK。

•良好放大器的稳定性~1μK/K

•热敏电阻的稳定性约为1mK/年至100mK/年

•噪声<1μK(热敏电阻中的约翰逊噪声+放大器噪声+桥电流中的散粒噪声)

•温度波动的量子极限~1nK

•最佳的烤箱设计可以提供非常高的f与T稳定性


AT和SC切割谐振器的预热

TCXO热滞后


明显滞后


OCXO收回

在(a)中,振荡器在烤箱关闭和打开的同时持续打开。在(b)中,烤箱在振荡器关闭和打开时持续打开。


TCXO微调效果

在TCXO中,温度敏感电抗用于补偿f与T的关系

变化。可变电抗也用于补偿TCXO老化。老化调整对f与T稳定性的影响是“微调效应”。曲线显示f与T

零微调和±6ppm微调时“0.5ppm TCXO”的稳定性。(为清楚起见,曲线已垂直位移。)



为什么有修剪效果?


负载电容对f与T的影响


谐波对f与T的影响


幅频效应

在高驱动水平下,由于石英的非线性,共振曲线变得不对称。


频率与驱动电平


驱动水平与阻力


第二级驱动效应


活动下降

在有负载和无负载运行时,f与T和R与T的活动下降

电容器。浸入温度是CL的函数,这表明浸入是由具有较大负温度系数的模式(可能是弯曲)引起的。


频率跳跃


加速度与频率变化

频率偏移是幅度和方向的函数

并且通常与高达至少50gs的幅度呈线性关系。


加速无处不在


*振荡器的水平取决于振荡器的安装方式和位置。平台共振可以大大放大加速度水平。

**建筑物振动会对噪声测量产生重大影响


加速影响“一切”

•加速力变形(应变)

材料和器件特性的变化——在某种程度上

•示例:

-石英谐振器频率

-放大器增益(应变改变半导体带结构)

-激光二极管发射频率

-光学性能.光纤折射率(声光)

-腔频率

-DRO频率(应变改变介电常数)

-原子钟频率

-杂散电抗

-时钟速率(相对论效应)


2-g倾翻试验

(Δf与绕三个轴的姿态)


正弦振动调制频率


加速度灵敏度矢量


振动引起的艾伦偏差退化


振动引起的相位偏移

振动调制信号的相位为


当振荡器受到正弦振动时,峰值相位偏移为

示例:如果10 MHz,1 x 10-9/g振荡器受到10 Hz的影响

振幅为1g的正弦振动,峰值振动引起的相位偏移为1×10-3弧度。如果将此振荡器用作参考

10GHz雷达系统中的振荡器,10GHz处的峰值相位偏移将为1弧度。如此大的相位偏移可能是灾难性的

例如采用锁相环(PLL)或相移键控(PSK)的那些系统的性能。


振动引起的边带


倍频后振动引起的边带